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半导体薄膜技术与物理
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= Physics and technology of semiconductor thin films /叶志镇 ... [等] 编著
ISBN/ISSN：978-7-308-06617-4
价格：CNY36.00
出版：杭州 :浙江大学出版社 ,2008
载体形态：278页 :图 ;24cm
简介：本书全面系统地介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础。全书共分十章。第一章概述了真空技术，第二至八章分别介绍了蒸发、化学气相沉积、液相外延等，第九章介绍了半导体超晶格和量子阱，第十章为半导体器件制备技术。
并列题名：Physics and technology of semiconductor thin films
中图分类号：TN304.05
责任者：叶志镇, (1955- ) 编著 吕建国 编著 吕斌 编著 张银珠 编著
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豆瓣内容简介：
《半导体薄膜技术与物理》全面系统地介绍了半导体薄膜的各种制备技术及其相关的物理基础。全书共分十章。第一章概述了真空技术，第二至第八章分别介绍了蒸发、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相外延、湿化学合成等各种半导体薄膜的沉积技术，第九章介绍了半导体超晶格、量子阱的基本概念和理论，第十章介绍了典型薄膜半导体器件的制备技术。
《半导体薄膜技术与物理》文字叙述上力求做到深入浅出，内容上深度和宽度相结合，理论和实践相结合，以半导体薄膜技术为重点，结合半导体材料和器件的性能介绍，同时还介绍了半导体薄膜技术与物理领域的新概念、新进展、新成果和新技术。《半导体薄膜技术与物理》具有内容翔实、概念清楚、图文并茂的特点。
《半导体薄膜技术与物理》读者对象广泛，可作为高等院校材料、物理、电子、化学等学科的研究生或高年级本科生的半导体薄膜技术课程的教材，也可作为从事半导体材料、薄膜材料、光电器件等领域的科研人员、工程技术人员的参考书籍。
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