| 字段 | 字段内容 |
|---|---|
| 001 | 01h1351901 |
| 005 | 20250227160625.0 |
| 010 | $a: 978-7-122-45663-2$b: 精装$d: CNY198.00 |
| 100 | $a: 20250227d2024 em y0chiy50 ea |
| 101 | $a: chi$c: eng |
| 102 | $a: CN$b: 110000 |
| 105 | $a: a a 000yy |
| 106 | $a: r |
| 200 | $a: 热丝化学气相沉积技术$A: re si hua xue qi xiang chen ji ji shu$f: (日) 松村英树 ... [等] 著$d: = Catalytic chemical vapor deposition: technology and applications of Cat-CVD$f: Hideki Matsumura$g: 黄海宾, 沈鸿烈等译$z: eng |
| 210 | $a: 北京$c: 化学工业出版社$d: 2024 |
| 215 | $a: 345页$c: 图$d: 27cm |
| 304 | $a: 题名页题其余责任者：(日) 梅本弘宣(Hironobu Umemoto)、(美) 卡伦·格利森(Karen K. Gleason)、(荷) 吕德·施罗普(Ruud E.I.Schropp) |
| 306 | $a: 本书中文简体字版由Wiley授权化学工业出版社独家出版发行 |
| 320 | $a: 有书目 |
| 330 | $a: 本书系统介绍了Cat-CVD技术，括其基本原理、设备设计及应用。具体括Cat-CVD的物理基础及其与等离子增强化学气相沉积的区别、Cat-CVD中化学反应的分析方法及基本原理、Cat-CVD的物理化学基础、Cat-CVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积(iCVD)合成有机聚合物、Cat-CVD设备运行中的物理基础与技术、Cat-CVD在太阳电池和各种半导体器件中的应用、Cat-CVD系统中的活性基团及其应用，后介绍了利用Cat-CVD腔室中产生的活性基团，在低温下进行半导体掺杂。 |
| 500 | $1: 0$a: Catalytic chemical vapor deposition: technology and applications of Cat-CVD$m: Chinese |
| 606 | $a: 化学气相沉积$A: hua xue qi xiang chen ji |
| 690 | $a: TG174.44$v: 5 |
| 701 | $a: 格利森$A: ge li sen$g: (Gleason, Karen K.)$4: 著 |
| 702 | $a: 沈鸿烈$A: shen hong lie$4: 译 |
| 801 | $a: CN$b: BUCTL$c: 20250227 |
| 905 | $d: TG174.44$r: CNY198.00$e: 17$a: BUCTLIB |
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