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热丝化学气相沉积技术
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/(日) 松村英树 ... [等] 著 = Catalytic chemical vapor deposition: technology and applications of Cat-CVD /Hideki Matsumura ;黄海宾, 沈鸿烈等译
ISBN/ISSN：978-7-122-45663-2 精装
价格：CNY198.00
出版：北京 :化学工业出版社 ,2024
载体形态：345页 :图 ;27cm
简介：本书系统介绍了Cat-CVD技术，括其基本原理、设备设计及应用。具体括Cat-CVD的物理基础及其与等离子增强化学气相沉积的区别、Cat-CVD中化学反应的分析方法及基本原理、Cat-CVD的物理化学基础、Cat-CVD制备的无机薄膜性能、引发化学气相沉积(iCVD)合成有机聚合物、Cat-CVD设备运行中的物理基础与技术、Cat-CVD在太阳电池和各种半导体器件中的应用、Cat-CVD系统中的活性基团及其应用，后介绍了利用Cat-CVD腔室中产生的活性基团，在低温下进行半导体掺杂。
统一题名：Catalytic chemical vapor deposition: technology and applications of Cat-CVD
中图分类号：TG174.44
责任者：松村英树 ((Matsumura, Hideki)) 著 梅本弘宣 ((Umemoto, Hironobu)) 著 格利森 ((Gleason, Karen K.)) 著 黄海宾 译 沈鸿烈 译
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