• 等离子体刻蚀工艺及设备

  
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/主编赵晋荣

ISBN/ISSN：978-7-121-45018-1 精装

价格：CNY98.00

出版：北京 :电子工业出版社 ,2023.02

载体形态：XIV, 164页 :图 ;24cm

丛编：集成电路系列丛书

附注：工信学术出版基金 集成电路产业知识赋能工程

简介：本书共8章, 内容包括集成电路简介、等离子体基本原理、集成电路制造中的等离子体刻蚀工艺、集成电路封装中的等离子体刻蚀工艺、等离子体刻蚀机、等离子体测试和表征、等离子体仿真、颗粒控制和量产。

并列题名：Plasma etching process and apparatus

中图分类号：TN305.7

责任者：赵晋荣 主编

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