| 字段 | 字段内容 |
|---|---|
| 001 | 0100025887 |
| 005 | 20051214142008.0 |
| 010 | $a: 7-81077-534-0$d: CNY26.00 |
| 100 | $a: 20050905d2005 em y0chiy0120 ea |
| 101 | $a: chi |
| 102 | $a: CN$b: 110000 |
| 105 | $a: ak z 000yy |
| 106 | $a: r |
| 200 | $a: 功能膜层的电沉积理论与技术$A: gong neng mo ceng de dian chen ji li lun yu ji shu$f: 朱立群编著 |
| 210 | $a: 北京[等]$c: 北京航空航天大学出版社[等]$d: 2005 |
| 215 | $a: [13],298页$c: 图表$d: 23cm |
| 300 | $a: 国防科工委“十五”规划教材 材料科学与工程 |
| 306 | $a: 与北京理工大学出版社、西北工业大学出版社、哈尔滨工业大学出版社、哈尔滨工程大学出版社合作出版。 |
| 320 | $a: 本书第297-298页附有书目 |
| 330 | $a: 全书共分13章，内容包括：金属镀层的电沉积基础、电沉积的基本原理、金属材料表面的镀前处理、单金属镀层的电沉积、电子工业常用镀层的电沉积等。 |
| 606 | $a: 电沉积 |
| 690 | $a: O646.54$v: 4 |
| 701 | $a: 朱立群$A: zhu li qun$4: 编著 |
| 801 | $a: CN$b: CEPC$c: 20050905 |
| 905 | $a: BUCTL$b: C740132-8$r: CNY26.00$d: O646.54$e: 6 |
| 999 | $a: ygz$b: 7$e: 200535 |
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